电子级超纯水设备技术优化，突破行业技术瓶颈

　　什么是电子级超纯水设备?电子级超纯水(UPW)是指电阻率为18Mω·cm(25℃)的水。除了水，水几乎没有杂质或离子。超纯水可分为国标《电子级水》和美标《电子与半导体超纯水水质标准》。与用于净化生活用水的普通净水器不同，电子超纯水一般用于科研、工业制造等高品质水领域。电子级超纯水在半导体、核电、燃煤发电、制药等行业发挥着重要的作用，尤其是在半导体和核电领域的巨大应用潜力逐渐显现。随着应用场景的日益复杂，对电子级超纯水的质量要求也越来越高。

　　电子级超纯水设备采用“原水进水口+超滤装置+一RO+二级RO+TOC装置+EDI系统+氮气密封系统+TOC装置+目标离子交换系统+终端过滤+水点”的处理流程。独特的靶向离子交换系统，针对超纯水中硼等难处理离子的定向去除。保证出水硼离子稳定≤5ppt。其技术优势如下：

　　1.电子超纯水设备可以连续稳定地生产出高纯度的超纯水，不会因树脂再生而停止。

　　2、电子超纯水设备系统集成，双操作系统，系统稳定性更高。

　　3、电子超纯水设备日常维护简单方便，设备经久耐用，寿命长。

　　电子芯片的生产，几乎每一道工序都需要电子超纯水设备进行清洗，超纯水的离子含量对产品有很大的影响。电子超纯水设备可以为用户提供更好的超纯水，帮助用户更好地提高产品收率。

　　目前，中国电子工业部将电子水质标准分为5个标准(18Mω·CM、15Mω·CM、10Mω·CM、2Mω·CM、0.5Mω·CM)来区分不同的水质。

　　1、≥15Mω·CM电子半导体超纯水设备工艺流程

　　预处理系统→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→EDI处理装置→纯水水箱→纯水泵→紫外杀菌器→0.2μm或0.5μm过滤器→超纯水

　　2、≥17Mω·CM电子半导体超纯水设备工艺流程：

　　预处理系统→反渗透系统→PH调节→中间水箱→二级反渗透系统→纯水水箱→纯水泵→EDI处理装置→紫外杀菌器→0.2或0.5μm过滤器→超纯水

　　3、≥18Mω·CM电子半导体超纯水设备工艺流程

　　预处理系统→反渗透系统→中间水箱→中间水泵→EDI处理装置→纯水水箱→纯水泵→紫外杀菌器→抛光混床→过滤→超纯水