电子级超纯水设备工艺流程综合讲解

　　随着半导体设计在电机的生产过程中向微型化、小型化、小型化，对纯净水的质量有更高的要求，电子级超纯水设备是一种除水离子外，还含有二氧化硅、颗粒、细菌、有机物和微生物等被赋予有限去除完全纯度的水质，常用于电子工业。因此，电子级超纯水设备已成为半导体行业用水的重要保障。

　　电子级超纯水设备顾名思义，它是EDI技术与反渗透技术的结合，能有效去除水中的悬浮物、胶体、颗粒等杂质，达到良好的净水目的。本设备无需添加任何化学药剂，无需担心水体二次污染。

　　电子超纯水设备工艺流程：

　　自来水进入原水箱，经增压泵，经砂滤、碳滤、阻垢剂加药、安全过滤器，到达反渗透单元，两级反渗透过滤进入EDI单元，抛光混床片元，EDI水进入水箱，其水质电阻率为15欧姆，抛光混床后，阻水率为18百万欧姆，但不进入水箱，直接进入水点。因为水箱如果有积水，会影响水质。纯水供应采用循环方式，由纯水供应泵加压，经紫外线消毒器和抛光混合床连接到纯水供应管道到达使用点。

　　电子超纯水设备一般包括石英砂过滤器、活性炭过滤器、阻垢器、过滤器、RO反渗透主机系统、EDI电脱盐系统、离子交换混床系统等。通过多年的实践，电子级超纯水设备将反渗透工艺与EDI装置相结合制备的电子级超纯水设备具有很好的实用价值，能够实现自动化控制，在一定程度上，能够有效地达到我国电子级水质标准，具有自动化程度高、水质稳定等优点。

　　电子超纯水设备在设计上采用两级RO+EDI+混合床淡化处理工艺，具有成熟、可靠、自动化程度高的特点，确保处理后的水电阻率在18兆hm以上。设备内部还安装了反渗透预脱盐技术，从根本上保证出水水质。

　　与工业、食品加工、电镀等行业相比，电子超纯水设备对水质电阻率的要求更为严格，即在清洗芯片、电路板和电子产品时，为了防止电子产品短路，需要使用电阻率高达18megohm的超纯水。得益于超纯水的绝缘，才保证了电子出厂产品的质量合格率，同时，电子超纯水设备还可以避免在精细电子产品上划伤或斑点，保证产品的美观。